Телецентрический объектив TLVS-H1.1 для видимого и коротковолнового ИК-диапазона | Коррекция смещения фокуса 400–1200 нм

Описание продукта

Телецентрический объектив Visible–SWIR с коррекцией смещения фокуса для прецизионной визуализации

Серия TLVS-H1.1 представляет собой высокопроизводительный телецентрический объектив Visible–SWIR, разработанный для продвинутых приложений машинного зрения, требующих визуализации в широком диапазоне длин волн от 400 до 1200 нм. Его уникальная технология коррекции смещения фокуса обеспечивает стабильную фокусировку изображения от видимого света до коротковолнового инфракрасного диапазона (SWIR), устраняя необходимость в повторной фокусировке при мультиспектральном контроле.

Эта серия позволяет пользователям получать изображения в видимом диапазоне и проходящего SWIR-излучения с высокой стабильностью, что обеспечивает обнаружение внутренних структур и дефектов, невидимых при стандартной визуализации в видимом диапазоне. Она особенно эффективна для контроля кремниевых пластин и визуализации внутренних схем ИС на длине волны пропускания ~1100 нм.

Доступна в увеличениях 0.7X, 1.0X, 2.0X и 4.0X, серия TLVS-H1.1 поддерживает как коаксиальные, так и некоаксиальные конфигурации, обеспечивая гибкую интеграцию в различные промышленные системы контроля.

Ключевые особенности

? Широкополосная визуализация Visible–SWIR (400–1200 нм)
Обеспечивает бесшовную визуализацию от видимого света до спектра SWIR.

? Технология коррекции смещения фокуса
Поддерживает четкую фокусировку на нескольких длинах волн без регулировки.

? Телецентрическая оптическая конструкция
Обеспечивает визуализацию без искажений и высокую точность измерений.

? Варианты многократного увеличения (0.7X–4.0X)
Гибкие конфигурации для различных приложений машинного зрения.

? Визуализация пропускания кремния ИС (~1100 нм)
Обеспечивает контроль внутренних схем через кремниевые пластины.

? Доступны коаксиальные / некоаксиальные версии
Подходит для систем отражательного и пропускательного контроля.

Идеальные области применения

• Контроль полупроводниковых пластин
• Визуализация внутренних схем ИС
• Контроль пропускания кремния
• Производство электроники
• Обнаружение дефектов в разных спектрах
• Прецизионная метрология
• Продвинутые системы машинного зрения
• Мультиспектральная промышленная визуализация

Спецификации

Телецентрический объектив C-Mount 400-1200 нм VIS-SWIR